半導體行業廢氣治理方案
方案概述
半導體行業廢氣處理，按照其廢氣處理工藝分為：酸性廢氣處理（SEX）、堿性廢氣處理(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般排氣(GEX)等；其廢氣處理系統包括：酸性廢氣處理設備、堿性廢氣處理設備、有機廢氣處理設備等；酸、堿廢氣處理設備有：洗滌塔，又名噴淋塔、吸收塔；有機廢氣處理設備有：活性炭吸附裝置、直燃式熱氧化廢氣焚燒爐（TO）等。
方案構成
方案特點
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智能運維
可遠程在線監控系統運行穩定，自動化程序高，可遠程智能監控，在線監測監控達標排放。
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工況要求底
處理風量范圍大對工況要求低，廢氣中可以含有多種有機成分，處理風量范圍大：1,000~300,000Nm3/h；
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運行費用低
廢氣充當燃料節省費用當 VOC 濃度達到平衡點，可不需要額外的燃料消耗。
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凈化率高
三床式RTO效率最好三床式 RTO 凈化率在 98% 以上；
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全自動控制
PLC參與整個廢氣處理過程全自動控制，操作簡單；操作費用低；節省人力物力；減少各種意外因素；提升安全性；
技術路線
活性炭 / 沸石+催化燃燒
凈化原理: 有機廢氣通過活性炭/沸石吸附飽和后，采用熱空氣進行脫附再生，脫附后的高濃度廢氣經催化燃燒排空。催化燃燒利用熱空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度廢氣，有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下于250~400℃之間催化氧化為CO2和H2O，并釋放大量的熱量，通過熱交換器對熱量進行再利用。
沸石轉筒+三塔式RTO
本技術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技術的組合工藝，凈化系統主要由多級過濾裝置、沸石轉輪濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控制系統組成。該組合技術通過沸石轉輪的吸附濃縮使大風量、低濃度有機廢氣濃縮為小風量、高濃度濃縮氣體，高濃度濃縮氣再經RTO高溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。
活性炭 / 沸石+催化燃燒
凈化原理: 有機廢氣通過活性炭/沸石吸附飽和后，采用熱空氣進行脫附再生，脫附后的高濃度廢氣經催化燃燒排空。催化燃燒利用熱空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度廢氣，有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下于250~400℃之間催化氧化為CO2和H2O，并釋放大量的熱量，通過熱交換器對熱量進行再利用。
沸石轉筒+三塔式RTO
本技術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技術的組合工藝，凈化系統主要由多級過濾裝置、沸石轉輪濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控制系統組成。該組合技術通過沸石轉輪的吸附濃縮使大風量、低濃度有機廢氣濃縮為小風量、高濃度濃縮氣體，高濃度濃縮氣再經RTO高溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。